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太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機(jī)，采用飛秒激光刻蝕設(shè)備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉等導(dǎo)電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對(duì)玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細(xì)線寬激光刻蝕、劃線、刻槽。
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太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕機(jī)，采用飛秒激光刻蝕設(shè)備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉、銅、鋁等導(dǎo)電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對(duì)玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細(xì)線寬激光刻蝕、劃線、刻槽。
同時(shí)，適用于其他多層材料超細(xì)線寬激光刻蝕加工，如不銹鋼網(wǎng)上的PI膜刻蝕、玻璃基材上PI膜刻蝕、不銹鋼光柵劃線等應(yīng)用。
設(shè)備簡(jiǎn)介
設(shè)備采用固體激光器，激光波長(zhǎng)1030nm，適合對(duì)導(dǎo)電玻璃與鍍層進(jìn)行精細(xì)刻線；采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導(dǎo)入CAD 數(shù)據(jù)進(jìn)行激光刻蝕，操作簡(jiǎn)單，方便快捷；通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)振鏡與直線電機(jī)、電動(dòng)升降工作臺(tái)的設(shè)計(jì)，加上真空吸附托盤裝置，能有效地解決激光刻蝕機(jī)在加工運(yùn)行中的平穩(wěn)性；采用獨(dú)特除塵系統(tǒng)設(shè)計(jì)，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激光刻蝕過程中無殘留。
設(shè)備集數(shù)控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機(jī)電高技術(shù)于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進(jìn)制造技術(shù)的特征。可大范圍內(nèi)進(jìn)行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產(chǎn)能，是一個(gè)可靠、穩(wěn)定和具有高性能價(jià)格比的產(chǎn)品。
適用行業(yè)
玻璃、硅片、陶瓷、PET薄膜等基底上鍍膜激光刻蝕，常用于觸摸屏、光伏太陽能電池、電致色玻璃、調(diào)光玻璃、發(fā)光玻璃、其它顯示屏等行業(yè)激光刻蝕加工。
整體說明
主要構(gòu)成：激光器、光路系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、 定位系統(tǒng)、 抽塵系統(tǒng)、 真吸附空系統(tǒng)等組成。
主要技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | ET1260-FF鈣鈦礦電池激光刻蝕機(jī) | |
激光器 | 飛秒、皮秒激光器，波長(zhǎng)1030nm/532nm | 納秒激光器，波長(zhǎng)1064nm |
加工幅面 | 1200*600mm/600*500mm/500*400mm（可定制加工幅面） | |
聚焦光斑 | ＜10μm | ＜20μm |
激光器頻率調(diào)節(jié)范圍 | 20-5000KHz | 100-500KHz |
刻蝕最小線寬 | ＜10 um | ＜20μm |
（最大可以去除95%以上的氧化物鍍層） | ||
整機(jī)精度 | ±15μm | ±20μm |
最小線間距 | ＜10μm | ＜20μm |
工作臺(tái)定位精度 | ±2um | |
工作臺(tái)重復(fù)精度 | ±1um | |
CCD自動(dòng)定位精度 | ±2um | |
刻蝕速度 | ＜4000mm/s | |
設(shè)備尺寸 | 1950mmL×1700mmW×1960mmH（根據(jù)實(shí)際尺寸而定） | |
設(shè)備重量 | 3500kg | |
功率消耗 | ＜3000W | |
可處理文件格式 | 標(biāo)準(zhǔn)CAD2004版DXF文件 | |
注：根據(jù)實(shí)驗(yàn)室前期實(shí)驗(yàn)性階段需要，武漢元祿光電針對(duì)性開發(fā)出了實(shí)驗(yàn)室階段小型激光刻蝕機(jī)，適用于100*100mm以下導(dǎo)電玻璃激光刻蝕、劃線應(yīng)用，歡迎前來咨詢了解。
P2層氧化鋯、氧化鈦激光刻蝕
P3層碳粉激光刻蝕
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碳粉激光刻蝕
鈣鈦礦電池成品
FTO激光刻蝕
碳粉激光刻蝕
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